La répartition des clusters dans le détecteur est le premier point qu'il convient de contrôler. Cette distribution peut être considérée comme résultant de la superposition de plusieurs contributions:
La contribution la plus importante provient de la dispersion en position de la particule incidente. Cette distribution est fonction du degré de focalisation du faisceau et de son profil mais également de la diffusion de l'électron primaire dans la cible de plomb. La répartition en position des particules directement issues du faisceau va donc contraindre très fortement la localisation spatiale de l'ensemble des clusters reconstruits. En effet, pour chaque événement, la gerbe électromagnétique composée de paires 
se développe autour de la trajectoire de la particule primaire à l'intérieur d'un cône de faible ouverture angulaire.
La dispersion des particules secondaires dans la gerbe est due à la fois aux effets dynamiques de création de paires et à la diffusion des particules dans le plomb puis dans le silicium.
La figure 2.28 représente la distribution en position des clusters reconstruits. L'accord entre les données et les simulations est acceptable, l'écart relatif obtenu étant toujours inférieur à 20%. Cette erreur provient en particulier de l'approximation sur la forme du profil de faisceau.
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